Sputter-Depositionsprozesse, insbesondere das Ionenstrahl-Zerstäuben (Ion Beam Sputtering, IBS), sind heute etablierte Verfahren, wenn es um die Herstellung von besonders anspruchsvollen, funktionalen Beschichtungen auf optischen Komponenten geht. Anders als beispielsweise beim Magnetron-Sputtern werden nach dem gegenwärtigen Stand der Technik in IBS-Prozessen noch materialspezifische, feste Parametersätze ohne eine In-situ-Regelung der Prozessgrößen verwendet. Eine derartige adaptive Regelung birgt jedoch ein erhebliches Potential, um eine vor allem für industrielle Anwendungen notwendige weitere Steigerung der Qualität, Reproduzierbarkeit und Ausbeute der hergestellten Beschichtungen zu realisieren. Im Rahmen des BMBF-Forschungsverbunds PluTO+ wurden am Laser Zentrum Hannover verschiedene adaptive Regelungsansätze zur Stabilisierung des IBS-Beschichtungsprozesses erforscht. Mit Hilfe dieser Verfahren konnte unter anderem die Stabilität der Beschichtungsrate des Prozesses deutlich erhöht werden. Der Vortrag gibt einen Überblick über die verfolgten Regelungsansätze und präsentiert die jeweils erreichte Prozessstabilitätsverbesserung.