Keine Kompromisse mehr zwischen Laserquelle und Prozessqualität

fs-Laser haben in der Industrie enorm an Bedeutung gewonnen und kommen beispielsweise beim Glasschneiden von Handydisplays zum Einsatz. Auch für die Mikrobearbeitung von Metallen oder Keramiken werden sie verwendet. fs-Laser emittieren dabei üblicherweise im Wellenlängenbereich um ein Mikrometer. Für viele Anwendungen sind allerdings Laser optimal, die Wellenlängen um zwei Mikrometer emittieren – etwa für Kunststoffe und organische Materialien, die Energie besonders gut in diesem Wellenlängenbereich absorbieren.

Einen solchen fs-Laser bei zwei Mikrometern mit mehr als 250 µJ Pulsenergie wollen die Wissenschaftler:innen der Gruppe Ultrafast Photonics des LZH gemeinsam mit der NeoLASE GmbH aus Hannover sowie den belgischen Partnern Optec S.A., Lasea und Multitel ASBL realisieren. Die Projektpartner werden außerdem eine komplette Anlage zur Materialbearbeitung entwickeln. Genutzt werden könnten die Hochenergie-Lasersysteme für Anwendungen etwa bei der Herstellung miniaturisierter, biokompatibler medizinische Komponenten wie kostengünstige Stents oder Katheter. Auch für die Verarbeitung von Halbleitern und das Fügen von Hybridmaterialien sollen die Lasersysteme eingesetzt werden können.

Über DISRUPT

Das Projekt DISRUPT (Development of ultrafast Infrared Sources for Realizing Unprecedented materials Processes at Two μm) befasst sich mit der Entwicklung ultrakurzer Infrarotquellen zur Realisierung beispielloser Materialbearbeitungsprozesse bei 2 μm. Am Projekt beteiligt sind neben dem LZH die NeoLASE GmbH, die Unternehmen Optec S.A. und Lasea aus Belgien sowie das Belgische Forschungsinstitut Multitel ASBL. Gefördert wird das Projekt vom Bundesministerium für Bildung und Forschung unter dem Förderkennzeichen 01QE2102B.