Sputter-Depositionsverfahren, im Speziellen das Ionenstrahl-Zerstäuben, kurz IBS (Ion Beam Sputtering), sind heute das Mittel der Wahl, wenn es um die Herstellung von besonders anspruchsvollen, funktionalen Beschichtungen auf optischen Komponenten geht. Anders als beispielsweise beim Magnetron-Sputtern werden gegenwärtig in IBS-Prozessen jedoch materialspezifische, feste Parametersätze ohne eine In-situ-Regelung der Prozessgrößen verwendet. Eine derartige adaptive Regelung birgt ein erhebliches Potential, um eine vor allem für industrielle Anwendungen notwendige weitere Steigerung der Qualität, Reproduzierbarkeit und Ausbeute der hergestellten Beschichtungen zu realisieren. Um das vorstehende Ziel zu erreichen, sollen ausgehend von den im BMBF Projektverbund PluTO erarbeiteten Ergebnissen im Rahmen des ebenfalls durch das BMBF geförderten PluTO+ Verbunds modellbasierte, geschlossene Regelungsketten für den IBS-Prozess erarbeitet werden. Der Vortrag gibt einen Überblick über die im Verlauf des PluTO Projekts identifizierten Einflussgrößen auf den IBS-Beschichtungsprozess und präsentiert die verfolgten Ansätze für einen möglichen adaptiven IBS-Prozess.